詳細
半導体製造において、組立前にウェハーの厚さを適正にすることが重要な要素です。ウェハーのバックグラインド(またはウェハー薄化)は、ウェハーの厚さを制御するための半導体製造プロセスで、小型電子デバイスの積層化、高密度実装に使用される超薄型ウェハーの製造に欠かせない工程です。
ウェハー薄化は常に重要な工程です。チップはすでにウェハー上に乗っており、この工程で何らかの失敗が生じると製造歩留まりやコストに影響します。薄化のプロセス中における厳密なインライン制御は、純水が存在する状況であっても、接触式ゲージまたは非接触式センサーを使用することで可能になります。
また、マーポスセンサーを使用すれば、グラインディングホイールがウェハーに接触した瞬間を検知したり、電力過負荷をチェックしたりすることもできます。
利点
- 乾燥/湿潤環境での信頼性の高いインプロセス厚さ測定
- テープ支持や接着剤があっても測定への影響なし
- 4~900 µmの絶対値厚さ制御(片側測定)
- スマートな厚さ処理により、きわめて薄い厚さまでのスムーズな制御とデータログが可能(ブラックボックス機能)