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ウェハー欠陥の検出

半導体製造において製造工程の各段階の品質を監視・管理する手段として計測とウェハー欠陥検出が、不可欠です。

Wafers defect's inspection
詳細

検出用顕微鏡用として、2Dクロマティックコンフォーカルラインカメラも用意されています。超高解像度と深い被写界深度が必要なアプリケーションでは、Z軸方向に完璧なフォーカスが得られます。このような性能から、このラインカメラはウェハーエッジやパッケージング工程などの欠陥検査に最適なソリューションとなっています。このタイプのセンサーはいずれも、計測/検査機械の中に組み込むことができます。マーポスとSTILの数十年にわたる経験が、カスタマイズされたソリューション専用の光学設計に活かされています。

利点
  • 0.4 μm x 0.4 μmの最小横方向分解能
  • 大きな傾角:+/-45°、開口数0.75
  • 最大199,500ライン/秒
  • より深い被写界深度(完璧なフォーカス)
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BROCHURES AND MANUALS

パンフレット
英語 SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
STIL - General catalogue: (13.23MB)
イタリア語 SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
ドイツ語 SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
ロシア語 SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
日本語 SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
STIL - General catalogue: (21.22MB)
韓国語 SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
中国語 (Simplified Chinese) STIL - General catalogue: (18.78MB)
SEMICONDUCTORS: (5.06MB)
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