arrow-left-2arrow-left-3arrow-left-4arrow-leftchronodiggdown-arrow--lineardown-arrowearthenvelopefacebookfacebook_ (2)facebook_forward-arrowforwardgooglehomeico-downloadico-linkindustries--1industries--10industries--10_oldindustries--2industries--3industries--4industries--5industries--6industries--6_oldindustries--7industries--8industries--9linkedinmailmarkernewspaperpadlockpage-arrow-leftpage-arrow-rightpage-listpencilpinterestplay-buttonprintersearchsocial-diggsocial-facebooksocial-googlesocial-instagramsocial-linkedinsocial-pinterestsocial-twittersocial-youtubestartelephonetwittertwitter_user

Macchine di Misura per Wafer

Il rilevamento di difetti ed il controllo delle caratteristiche dimensionali dei wafer è fondamentale nella produzione di semiconduttori. Strumenti di misura dimensionale e rilevamento difettosità sono utili a monitorare e controllare la qualità di ogni fase della sequenza del processo produttivo dei circuiti integrati.

Wafers metrology machines
DESCRIZIONE

I sensori Marposs e  STIL coprono molte applicazioni di controllo del wafer, a partire dalle misure di spessore, TTV, curvatura o forma ma anche immagini 2D o misure di topografia in 3D.

La nostra tecnologia confocale cromatica è la soluzione ideale per eseguire misurazioni ad alta precisione. Le penne ottiche offrono diverse distanze di lavoro, campo di misura, dimensioni dello spot e aperture numeriche per adattarsi meglio ai requisiti dell'applicazione. Sono inoltre disponibili prodotti di misura interferometrica (IR o luce bianca) per rilevare lo spessore di materiali trasparenti o opachi, eseguendo misure assolute molto accurate.

I sensori di linea consentono di acquisire immagini di misura in 3D: l'acquisizione dell’immagine è intrinsecamente coassiale e viene eseguita ad altissima frequenza con il vantaggio di avere un’elevata profondità di campo ed apertura numerica.

Tutti questi tipi di sensori possono essere integrati all'interno di macchine metrologiche e di ispezione. La decennale esperienza di Marposs e STIL è a disposizione dei nostri clienti per trovare una soluzione personalizzata anche attraverso un prodotto dedicato che richiede ad esempio una personalizzazione del progetto ottico.

VANTAGGI
  • Risoluzione laterale < 1μm
  • Elevata angolazione di misura: +/-45° con NA di 0.75
  • Fino a 360.000 punti di misura al secondo con accuratezza sub-micrometria e risoluzione nanometrica sull’asse Z di misura
  • Misura accurate di bumps/pillars attraverso le nostre penne ottiche della linea CLMG ed EVEREST
  • Flessibilità nel posizionare i punti di misura su una linea o su posizioni definite dal cliente stesso
  • Estesa profondità di campo (perfettamente a fuoco)
Download

BROCHURES AND MANUALS

Catalogo
Inglese SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
STIL - General catalogue: (13.23MB)
Italiano SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
Tedesco SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
Russo SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
Giapponese SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
STIL - General catalogue: (21.22MB)
Coreano SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
Cinese Semplificato SEMICONDUCTORS: (5.06MB)
STIL - General catalogue: (18.78MB)
Chiudi
Chiudi

Richiedi informazioni

Inserisci il tuo nome
Inserisci il tuo cognome
Inserisci il nome dell'azienda
Inserisci la tua email

Per consentire la consegna del messaggio direttamente all'ufficio competente seleziona il campo applicativo nella lista sottostante:

Inserisci il tuo messaggio

Prima di inviare il modulo leggi attentamente l'informativa sul trattamento dei tuoi dati personali fornita ai sensi del Regolamento UE 679/2016.

Fornisci il consenso al trattamento dei dati personali
Top Contattaci