Verifica dei Difetti del Wafer
Il rilevamento di difetti ed il controllo delle caratteristiche dimensionali dei wafer è fondamentale nella produzione di semiconduttori. Strumenti di misura dimensionale e rilevamento difettosità sono utili a monitorare e controllare la qualità di ogni fase della sequenza del processo produttivo dei circuiti integrati.
Per scopi di microscopia, forniamo telecamere basate sulla tecnologia confocale cromatica, molto utile per il rilevamento di immagini in 2D. Si tratta di soluzioni adatte ad applicazioni che richiedono risoluzioni elevate e un'ampia profondità di campo. I nostri sensori forniscono una messa a fuoco perfetta sull'asse Z ed è proprio questa caratteristica che li rende la soluzione giusta per l'ispezione dei difetti che compaiono, ad esempio, sul bordo del wafer e durante il processo di impacchettamento. I nostri sensori sono progettati per essere integrati all'interno di macchine metrologiche e di ispezione. La decennale esperienza di Marposs e STIL è a disposizione dei nostri clienti per trovare una soluzione personalizzata anche attraverso un prodotto dedicato che richiede ad esempio una personalizzazione del progetto ottico.
- Risoluzione laterale minima di 0.4 μm * 0.4 μm
- Elevata angolazione di misura: +/-45° con NA di 0.75
- Fino a 199.5k linee al secondo
- Estesa profondità di campo (perfettamente a fuoco)
BROCHURES AND MANUALS
Catalogo | |
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Inglese |
SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
STIL - General catalogue: (13.23MB) |
Italiano |
SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
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Tedesco |
SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
|
Russo |
SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
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Giapponese |
SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
STIL - General catalogue: (21.22MB) |
Coreano |
SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
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Cinese Semplificato |
STIL - General catalogue: (18.78MB)
SEMICONDUCTORS: (5.06MB) |