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晶圆缺陷检测

晶圆测量和缺陷检测是半导体生产的关键环节,检测和控制生产中的每一步生产质量。

Wafers defect's inspection
描述

为了显微测量,马波斯提供2D光谱共焦线扫相机。
在超高分辨率和超大景深应用中,可在Z轴上准确聚焦。
因此,这是检测晶圆缺陷的理想选择,例如,晶圆沿的检测和封装期间的检测。
这些传感器都允许集成在测量和检测设备中。
马波斯STIL在数十年的发展中积累了丰富的经验,可为用户提供量身定制解决方案和专用的光学设计。

优势
  • 最小横向分辨率0.4μm * 0.4μm
  • 大倾斜角:+/-45°,0.75数值孔径
  • 多达199.5 k线/秒
  • 超大景深(准确聚焦)
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BROCHURES AND MANUALS

产品资料
英语 STIL - General catalogue: (13.23MB)
SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
意大利语 SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
德语 SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
俄语 SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
日本语 SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
STIL - General catalogue: (21.22MB)
韩国语 SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
中文 (Simplified Chinese) SEMICONDUCTORS: (5.06MB)
STIL - General catalogue: (18.78MB)
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