arrow-left-2arrow-left-3arrow-left-4arrow-leftchronodiggdown-arrow--lineardown-arrowearthenvelopefacebookfacebook_ (2)facebook_forward-arrowforwardgooglehomeico-downloadico-linkindustries--1industries--10industries--10_oldindustries--2industries--3industries--4industries--5industries--6industries--6_oldindustries--7industries--8industries--9linkedinmailmarkernewspaperpadlockpage-arrow-leftpage-arrow-rightpage-listpencilpinterestplay-buttonprintersearchsocial-diggsocial-facebooksocial-googlesocial-instagramsocial-linkedinsocial-pinterestsocial-twittersocial-youtubestartelephonetwittertwitter_user

Máquinas de control de dimensiones de las obleas

La detección de defectos y el control de las dimensiones de las obleas son fundamentales en la fabricación de semiconductores, ya que ofrecen los medios para monitorizar y controlar la calidad de cada paso en la secuencia de fabricación.

Wafers metrology machines
DESCRIPCIÓN

Los sensores Marposs y STIL abarcan muchas aplicaciones, desde las medidas de grosor, TTV, inclinación y deformación a una imagen 2D y topografía 3D completas.

La tecnología confocal cromática es la solución optimizada para conseguir mediciones de protuberancias de gran precisión. Los lápices ópticos ofrecen diferentes distancias de trabajo, intervalo de medida, tamaños de punto  y aperturas numéricas para adaptarse mejor a los requisitos de la aplicación. También están disponibles productos interferométricos (IR y luz blanca) para detectar el grosor de los materiales transparentes y no transparentes realizando medidas muy precisas.

Los sensores en línea también permiten la elaboración de imágenes 3D: La adquisición coaxial de una longitud de línea definida se realiza con alta frecuencia al tiempo que se mantiene la ventaja de una gran profundidad de enfoque y elevada apertura numérica.

Todos estos tipos de sensores pueden integrarse en las máquinas de control de dimensiones e inspección. Marposs y STIL’s ponen a disposición décadas de experiencia para conseguir una solución personalizada y un diseño óptico específico.

VENTAJAS
  • Resolución lateral < 1μm
  • Elevado ángulo de inclinación: +/-45° con NA de 0,75
  • Hasta 360.000 puntos medidos/segundo con una precisión submicrométrica y resolución nanométrica en el eje Z
  • Medición de protuberancias usando sensores CLMG / EVEREST
  • La posición de los puntos de medición puede estar en una línea o ser definida por el cliente
  • Profundidad de campo ampliada (de enfoque perfecto)
Descargar

BROCHURES AND MANUALS

Catálogo
Inglés SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
STIL - General catalogue: (13.23MB)
Italiano SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
Alemán SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
Ruso SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
Japonés SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
STIL - General catalogue: (21.22MB)
Coreano SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
Chino simplificado STIL - General catalogue: (18.78MB)
SEMICONDUCTORS: (5.06MB)
Cerrar
Cerrar

Solicitar información

Insertar tu nombre
Insertar apellido
Insertar el nombre de la empresa
Insertar correo electrónico

Para entregar el mensaje a la división correspondiente, seleccione a continuación el campo de aplicación.:

Escribir mensaje

Antes de enviar el módulo lea atentamente la nota informativa sobre el tratamiento de los datos personales que se incluye en cumplimiento del Reglamento UE 679/2016 .

Por favor, acepte la política de privacidad
Top Contáctanos