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Détection de défauts sur plaques

La métrologie et la détection de défauts sur plaques sont essentielles dans la fabrication de semi-conducteurs , en permettant de surveiller et de contrôler la qualité de chaque étape de la séquence de fabrication.

Wafers defect's inspection
DESCRIPTION

Aux fins de microscopie, des caméras de ligne confocales chromatiques 2D sont aussi disponibles. Pour les applications requérant une très haute résolution et une grande profondeur de focalisation, ces dispositifs fournissent une parfaite focalisation sur l’axe Z. Ceci en fait la solution idéale pour la recherche de défauts, par exemple sur le bord de la plaque et lors du processus de packaging. Tous ces types de capteurs peut être intégrés aux équipements de métrologie et d’inspection. La très longue expérience de Marposs et STIL est mise à disposition pour une solution personnalisée et une conception optique dédiée.

AVANTAGES
  • Résolution latérale minimum de 0.4μm * 0.4μm
  • Angle d'inclinaison élevé : +/-45 avec NA de 0.75
  • Ligne jusqu’à 199 500 bits par seconde
  • Profondeur de champ étendue (de parfaite focalisation)
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BROCHURES AND MANUALS

Brochure
Anglais SEMICONDUCTORS: (2.27MB)
STIL - General catalogue: (13.23MB)
Italien SEMICONDUCTORS: (2.63MB)
Allemande SEMICONDUCTORS: (2.28MB)
Russe SEMICONDUCTORS: (2.23MB)
Japonais STIL - General catalogue: (21.22MB)
SEMICONDUCTORS: (2.38MB)
Coréean SEMICONDUCTORS: (7.41MB)
Chinoise Simplifié STIL - General catalogue: (18.78MB)
SEMICONDUCTORS: (5.06MB)
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